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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-111
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 マスクアライメント露光装置
(Mask Aligner )
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様
  • 露光源 : ウシオ電機マルチライト 超高圧水銀ランプ
  • 主波長 : 365nm(i線)
  • 照度 : 約32mW/cm2
  • 露光モード : コンタクト方式
  • ウェハサイズ : 小片基板~4インチ
  • 露光領域 : 最大85mmφ
F-AT-111

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