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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-107
分類 合成、熱処理、ドーピング > 酸化、拡散、イオン注入
設備名 ウェハー酸化炉
(Oxidation Furnace)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

この装置は、シリコンウエハー表面の酸化膜形成などの熱処理に用います。横型の熱処理炉で、試料室内部はドライまたはウェットな酸素ガス雰囲気もしくは、不活性ガス(窒素)雰囲気に制御可能であり、熱処理温度は1200 ℃まで加熱することができます。また、縦置きホルダーを利用すれば4インチウェハを一度に25枚まで熱処理することもできます。尚、炉心管の汚染防止のため金属の着いた試料やSi以外の基板は使用禁止とします。

  • 型式:MAT-200KS
  • ヒーター:カンタルRAC200,220L×3ゾーン 
  • 常用温度、到達時間:1100 ℃、2時間 
  • 温度分布:1100 ℃±2 ℃(範囲長さ200 mm) 
  • 炉心管:石英、Φ136 mm×長さ1090 mm 
  • 試料寸法:最大Φ4インチ×25枚(長さ150 mm)
  • 試料室:ドライ、ウェットな雰囲気制御可能 
  • 使用ガス:O2, N2
F-AT-107

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