文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-106
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 ECRスパッタリング装置
(Electron Cyclotron Resonance (ECR) Sputter Deposition System)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

エム・イー・エス アフティ株式会社製

  • 電子サイクロトロン共鳴(ECR)プラズマスパッタ方式
  • 成膜可能材料:Al2O3, SiO2, AlN, SiN
  • 基板サイズ:最大φ100 x t3 mm
  • 基板加熱:Max 300 ℃
  • 成膜距離:100~200 mm
  • 成膜ガス圧力:0.1~0.2 Pa
F-AT-106

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)