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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-104
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 コンタクトマスクアライナー
(Contact Mask Aligner)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

MJB4型インチサイズ不定形各種基板

5種類の露光モードを持ち、サブミクロン域までの露光や高精度なアライメント露光が可能な、コンタクト方式高性能手動マスクアライナです。基板は4インチウェハまで対応し、破片状の小片基板なども処理できます。フォトマスクは、ホルダーのガイド位置を変えれば、2.5~5インチマスクまで取り付けることが可能です。

  • 基板サイズ:2インチ~4インチ、不定形小片~100mm
  • 解像度 :約800nm(バキュームコンタクト使用時)
  • 波長 :g線
  • 照度 :約40mW/cm2
  • 露光モード:プロキシミティ、ソフトコンタクト、ハードコンタクト、
  • ソフトバキュームコンタクト、バキュームコンタクト
  • 露光領域 :2.5~5インチ対応マスクホルダー 最大40mmφ
  • 4インチ,5インチ対応マスクホルダー 最大75mmφ
F-AT-104

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