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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-AT-100
分類 形状・形態観察、分析 > 分光(光、電子線、イオン線、プラズマ、磁気、X線)
質量分析 > SIMS
設備名 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometer; D-SIMS)
地域 関東
設置機関 産業技術総合研究所
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 共用施設ステーション
仕様

アルバックファイ社製ADEPT-1010型
試料にイオンを照射し、試料表面からスパッタリング放出される二次イオンを質量分析することによって深さ方向の元素分布情報を得る分析手法です。固体表面の検出感度が高く、1H~92Uまでの全元素および同位体に対してppm~ppbの範囲で定量が可能です。

  • 型式:ADEPT-1010
  • 一次イオン:
     1. O2:加速電圧 0.25-8.0kV
     2. Cs:加速電圧 0.25-11.0kV
  • ビーム径:φ75μm以下
  • 導入可能最大試料サイズ:φ50mm
  • 二次イオン質量分析計:四重極型
  • 分析モード:質量スペクトル測定、ライン分析、デプスプロファイル、二次イオンイメージ像
F-AT-100

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