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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID A-UT-065
分類 試料作製装置 > 集束イオンビーム(FIB)
膜加工・エッチング > 集束イオンビーム加工
設備名 透過型電子顕微鏡試料イオンビーム加工設備(FIB)JIB-4600F(日本電子)
(Ion Beam Processing System for TEM Sample JIB-4600F(JEOL))
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細構造解析
担当部署または担当者
仕様

□ 特長

  • 高分解能 FE-SEM を搭載し、ピンポイントでの断面作製が可能
  • 高分解能 SEM で FIB 加工状況をリアルタイムにモニタ可能
  • インレンズサーマル電子銃を搭載し、最大 200nA の大電流による安定した高速分析が可能

□ 主な仕様

FIB(収束イオンビーム)

  • イオン源:Ga液体金属イオン源
  • 加速電圧:1~30kV
  • 倍率:×30(視野探し)、×100~×300,000
  • イオンビーム加工形状:矩形、ライン、スポット

SEM(電子ビーム)

  • 加速電圧:0.2~30kV
  • 倍率:×20~×1,000,000
  • 像分解能:1.2nm(加速電圧30kV)、3.0nm(加速電圧1kV)
A-UT-065

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