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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID A-UT-058
分類 表面分析装置 > X線光電子分光(XPS)
表面分析装置 > 電子分光(XPS/UPS/AES)
設備名 多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS)PHI 5000 VersaProbe(ULVAC-PHI)
(Multifunctional Scanning X-ray Photoelectron Spectrometry (XPS)PHI 5000 VersaProbe(ULVAC-PHI))
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細構造解析
担当部署または担当者
仕様

PHI 5000 VersaProbe(アルバックファイ)

□ 主な特長

  • 走査型マイクロフォーカスX線源による微小領域分析
    (最小分析領域10μm)
  • SXI(Scanning X-ray Image)により、正確・迅速に微小な分析位置を特定
  • 低エネルギー電子とイオンの同時照射により、絶縁物試料を容易に帯電中和
  • 5軸(X、Y、Z、Tilt、Rotation)モータ駆動による多点分析

□ 主な仕様

  • 最小ビーム径:10μm以下
  • 最高エネルギー分解能:0.5eV以下(Ag3d 5/2)
  • 最大感度:1,000,000cps(Ag3d 5/2の半値幅1.0eVのとき)
  • 到達圧力:6.7×10-8Pa以下
A-UT-058

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