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大分類:合成、熱処理、ドーピング

合成、熱処理、ドーピング

材料の性質を目的に合わせて変化させる手段として,結晶材料の合成,熱処理による変質,イオンのドーピングなどがある.材料の合成ではカーボンナノチューブ(CNT),グラフェン,ダイヤモンドなどの結晶成長が行われ,熱処理では酸化,不純物元素の拡散,アニールなど多くの用途がある.不純物元素のドーピングにはイオン注入装置が広く使われている.

該当する中分類件数:4件

成長炉
各種の材料結晶の成長を行う装置
CNT・グラフェン成長

プラズCVD法等によりカーボンナノチューブ,カーボンナノウォール,グラフェンなどのカーボン結晶の生成を行う.

酸化、拡散、イオン注入

酸化,不純物熱拡散,アニール,シンタリング等の用途の加熱炉がある.1000℃前後まで加熱ができ,利用できるウエハ径は2~4インチが多いが8インチもある.イオン注入装置は,加速電圧30~200keVで,中電流まである.B, P, As, Nなどの元素が注入出来る.

熱処理、レーザーアニール

熱処理装置では温度範囲400℃~1200℃,急速加熱(200℃/sec)などの装置があり,またレーザーアニールではKrFレーザーのマスクパターン縮小投影による局所表面のアニーリングを行うことが出来る装置がある.