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大分類:試料作製装置

試料作製装置

英語名:Equipment for Sample Preparation.電子顕微鏡観察用試料など測定・観察試料の作製・加工に用いる装置.切削,切断,研磨等の加工を全面,領域限定,微細寸法等,作製・加工方法を目的に応じて選択する.

該当する中分類件数:3件

イオンミリング

英語名:Ion Milling.電界で加速したイオンを試料に照射し,イオンの運動エネルギーにより試料原子を弾き飛ばす(スパッタリング)現象,およびこの現象を用いた試料切削加工法.電子顕微鏡の試料作製の場合,予備的に薄くした試料の表面すれすれにアルゴンイオンビームを入射させて薄膜試料を作る.

集束イオンビーム(FIB)

英語名:Focused Ion Besm, FIB.加工の基本的な原理はイオンミリングと同一である.イオンビームを集束レンズによって数nmから数100nm径に集束させるのでナノメートル領域の加工ができる.加速電圧,電流密度の高いほど加工速度は速くなるが加工表面近傍の損傷は大きくなる.通常Gaイオンが用いられる.

試料作製装置群

英語名:Sample Preparation System.生体,高分子,セラミックス,金属,半導体等の試料を電子顕微鏡等の観測機器で観察出来る状態に加工(切削,切断,研磨等)するための装置群.加工の対象,目的に応じて装置を選択・使用する.