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参画機関から

微細加工 筑波大学,物質・材料研究機構,東京工業大学,産業技術総合研究所

電子ビームリソグラフィ実践セミナーⅣ(10月26日)開催のお知らせ

 筑波大学,物質・材料研究機構,東京工業大学,産業技術総合研究所は,文部科学省委託事業である「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として「電子ビームリソグラフィ実践セミナーⅣ」を筑波大学東京キャンパスにて開催いたします.電子ビーム露光の基礎から最新のレジストプロセスまで,露光事例とともに微細パターン形成技術について紹介いたします.また,各セッションの終わりにオーサーズ・インタビューの時間を設けました.普段質問しづらいことを,この機会に是非,講師の先生方に個別にご質問ください.
 また,このセミナーへの参加をより充実した機会にするために,実習コースを併設しています.産学官にかかわらず,多くの皆様のご参加をお待ちしています.

【日時】2018年10月26日(金)12:55~16:00
【場所】筑波大学東京キャンパス文京校舎 120号教室(丸ノ内線茗荷谷駅)
http://www.tsukuba.ac.jp/access/bunkyo_access.html

【主催】産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF),物質材料研究機構微細加工プラットフォーム,
 筑波大学微細加工プラットフォーム,東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
【共催】ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC)
【協賛】GenISys株式会社,株式会社エリオニクス

【参加費】無料
【定員】90名(先着順,参加登録をお願いします)
【参加申込締切】2018年10月22日(月)15時まで(*定員になり次第締切)
【参加申込方法】E-mailにて申込(*入力必須項目あり)
 宛先:tia-npf-school2(at)aist.go.jp

【講演プログラム】
12:55-13:00     はじめに             産業技術総合研究所 多田 哲也
13:00-13:30    『デバイス・プロセスを見込んだ電子ビーム露光』
                        東京工業大学 宮本 恭幸
13:30-13:50    『電子ビーム露光における近接効果補正』
                        産業技術総合研究所 有本 宏
13:50-14:20    『電子ビーム描画における露光データの最適化処理』
                        GenISys株式会社 清水 諭
14:20-14:40     休憩(オーサーズインタビュー)
14:40-15:10    『電子ビーム描画装置の応用的な使い方について』
                        株式会社エリオニクス 新関 嵩
15:10-15:40    『電子ビーム露光によるレジスト材料評価事例のご紹介』
         富士フイルム株式会社エレクトロニクスマテリアルズ研究所 土橋 徹
15:40-16:00    『現像プロセスにおける温度管理の有意性』
                        物質・材料研究機構 津谷 大樹
16:00-17:30     意見交換会(無料)


◇実習コース◇
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム ELS-7000改(エリオニクス)
 12月5日(水)EB描画(基礎)定員:3名(無料)
 12月9日(水)EB描画(応用)定員:3名(無料)
 下記URLに記載されている申し込みに従って直接お申し込みください.
http://www.nims.go.jp/rnfs/events/H30/school.html

東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所 JEOL JBX-6300SJ(日本電子)
 11月1日(木),11月2日(金)定員:1日2名(無料)

産業技術総合研究所 ナノプロセシング施設(NPF)ELS-F130AN(エリオニクス)
 11月6日(火)定員:3名(無料)


【お問い合せ】tia-npf-school2(at)aist.go.jp
*(at)をアットマークに変更してからご使用ください.