参画機関から

微細加工 産業技術総合研究所,東京工業大学,北海道大学

電子ビームリソグラフィ実践セミナーIII(2月15日)開催のお知らせ

 北海道大学,東京工業大学,産業技術総合研究所は,文部科学省委託事業である「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として「電子ビームリソグラフィ実践セミナー」を東京ファッションタウン9F(研修室907)にて開催いたします.
 電子ビーム露光装置メーカー各社からの最新の露光装置性能と露光事例とともに,光導波路やフォトニック結晶作製のための電子ビームリソグラフィー技術について紹介いたします.
 また,各セッションの終わりにオーサーズ・インタビューの時間を設けました.普段質問しづらいことを,この機会に是非,講師の先生方に個別にご質問ください.

 また,このセミナーへの参加をより充実した機会にするために,無料実習コースを併設しています.産学官にかかわらず,多くの皆様のご参加をお待ちしています.
〈実習コース〉
【日時】2018年2月21日,22日(*1日コースを2回開催,定員:各日2名)
【場所】東京工業大学 大岡山キャンパス 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
【実習内容】日本電子株式会社製JBX-6300SJによる露光実習を行う.その中で,近接効果の評価及び補正に関する議論を行う.
 
 尚,当日は,隣接する東京ビッグサイトにて,nano tech 2018(http://www.nanotechexpo.jp/main/)が開催されております.

【日時】2018年2月15日(木)12:30~17:00
【場所】東京ファッションタウン9F(研修室907)

【主催】
産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF),東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所,北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室

【定員】90名(*先着順)
【参加費】無料(*事前登録制)
【参加申込方法】件名を「電子ビームリソグラフィ実践セミナーⅢ」参加申込,としてE-mail送信
(*入力必須項目あり)
E-mail:tia-npf-school5(at)aist.go.jp
【参加申込締切】2018年2月9日(金)15時まで

【お問い合せ】
国立研究開発法人 産業技術総合研究所 TIA推進センター 共用施設運営ユニット 共用施設ステーション
ナノプロセシング施設
E-mail:tia-npf-school5(at)aist.go.jp