参画機関から

微細加工 産業技術総合研究所 産業技術総合研究所

電子ビーム露光実践セミナー(2月21日)開催のお知らせ

 文部科学省委託事業「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として,「電子ビームリソグラフィ実践セミナー」を産業技術総合研究所つくば中央にて開催いたします.電子ビーム露光技術の基礎を初心者にも分かり易く解説するとともに,電子ビーム露光装置メーカー各社から最新の露光装置の性能と事例を紹介いたします.また,各セッションの終わりにオーサーズ・インタビューの時間を設けました.普段質問しづらいことを,この機会に是非,講師の先生方に個別にご質問ください.また,このセミナーへの参加をより充実した機会にするために,無料実習コースを併設しています.産学官にかかわらず,多くの皆様のご参加をお待ちしています.

主催:

 産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF)
 東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
共催:ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC)

【日時】2017年2月21日(火)12:55-17:00
【場所】産業技術総合研究所 つくば中央第2 事業所 2-12棟 第6会議室
 http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html
【定員】90名(先着順,参加登録をお願い致します)
【参加費】無料

【講演プログラム】

12:55-13:00 開会 産業技術総合研究所 共用施設ステーション 多田 哲也
13:00-14:00 『電子線露光の基礎』東京工業大学 宮本 恭幸
14:00-14:20 『グラフェン評価のための電極形成プロセス』産業技術総合研究所 佐藤 平道
14:20-14:40 休憩(オーサーズインタビュー)
14:40-15:10 『電子ビーム描画装置の高度な使い方』日本電子株式会社 會田 征徳
15:10-15:40 『電子線描画装置の課題と開発計画について~高精度と高スループット達成の為の新技術~』
        株式会社エリオニクス 新関 嵩
15:40-16:10『F7000Sの最新露光事例紹介』株式会社アドバンテスト 瀧澤 昌弘
16:10-16:40 『クレステックの電子ビーム描画装置』株式会社クレステック 柴田 政宏
16:40-17:00 オーサーズインタビュー
17:00 閉会

実習プログラム1
【定員】1日に付2名,2回実施
【日時】2017年3月8日,9日
【場所】東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
【実習内容】日本電子株式会社製JBX-6300SJを用いて近接効果補正に関する実習を行う.

実習プログラム2
【定員】2名
【日時】後日決定(2月-3月末の2日間)
【場所】国立研究開発法人産業技術総合研究所
【実習内容】クレステック社製CABL-9410TFNAを用いて電子ビーム露光に関する実習を行う.

※実習コースを受講される方は,講義を受講している必要があります.


【参加申込方法】E-mail
 E-mail:tia-npf-school4(at)aist.go.jp
 件名:『電子ビーム露光実践セミナー』参加申込
 ※申込メール本文の記載事項あり

【参加申込締切】2017年2月20日15時

【お問い合わせ】

 国立研究開発法人 産業技術総合研究所
 TIA推進センター 共用施設運営ユニット 共用施設ステーション ナノプロセシング施設
 E-mail:tia-npf-school4(at)aist.go.jp