参画機関から

微細加工 山口大学,広島大学,香川大学,FAIS

文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細加工プラットフォーム「第2回広島大学・山口大学・香川大学・FAIS合同シンポジウム」(11月22日)開催のお知らせ

【主催】
 山口大学 学研究推進機構 微細加工支援援室
 広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
 香川大学 社会連携・知的財産センター ナノテクノロジー支援室
 (公財)北九州産業学術推進機構(FAIS)
【協賛】 ナノテクノロジープラットフォームセンター

【日時】2016年11月22日(火)12:50~16:45
【場所】山口大学常盤キャンパス D11講義室
【参加費】無料

<基調講演>
 「先端計測・微細加工技術からイノベーション創出へ」
 「日本の圧力真空標準の整備と標準コンダクタンスエレメントの開発」

<成果報告>
 「CLC-Si薄膜(100)面方位制御へのレーザパワーの影響」
 「ミストCVD法を用いた光吸収層用酸化物・硫化物の成長」
 「ナノ相分離型液晶性電子機能材料を用いた薄膜デバイスの作製」
 「窒化シリコン薄膜を用いた超微細デバイス用基板の作製」
 「生体情報計測のための1チップ血管動態測定センサ」
 「伝熱面の機能化による伝熱促進に関する研究」
 「非化学増幅型電子線レジストの開発」
 「省合金型二相ステンレス鋼の真空特性」

【参加申込方法】下記の申込フォームより登録
 https://ds22n.cc.yamaguchi-u.ac.jp/~nanotech/form3/form.php

【参加申込締切】2016年11月11日(金)
 ※当日受付もしておりますが,資料等の準備の都合上,
  できるだけ事前申込のうえ,ご参加頂きますようお願い申し上げます.

【お問い合わせ】
 山口大学:nanotech(at)yamaguchi-u.ac.jp
 広島大学:nanotech(at)hiroshima-u.ac.jp
 香川大学:nanoplatform(at)ao.kagawa-u.ac.jp
 FAIS:nano01(at)hibikino.ne.jp