参画機関から

微細加工 京都大学,東京工業大学

H28年度 電子線描画リソグラフィスクール(6月14日)開催のお知らせ

主催:京都大学 ナノテクノロジーハブ拠点,東京工業大学 量子ナノエレクトロニクス研究センター
日時:2016年6月14日(火) 13:00~16:10
場所:京都大学(本部構内)国際科学イノベーション棟 5階 5a-5b会議室
定員:40名
参加費:無料

 本スクールは,文部科学省ナノテクノロジー・プラットフォーム事業の一環として,産学官の研究者に電子線描画リソグラフィ技術を中心とした超微細加工に関する装置やその原理を学習する場と,電子線描画リソグラフィ技術を実地に習得する機会を提供し,ナノテクノロジーにおける人材育成に貢献することを目的としています.多くの方々のご参加をお待ち申し上げます.
注)6月15日開催の実習コースは定員オーバーとなりましたので,受付を終了させていただきました.

【プログラム】
 13:00-13:05 ご挨拶 京都大学 田畑修
 13:05-13:50 「高精度電子ビームナノリソグラフィとその応用」 東京大学 生津英夫
 13:50-14:35 「電子線リソグラフィの高解像・高速化」 日立中央研究所 山本治朗
 14:35-14:50 休憩
 14:50-15:35 「デバイス・プロセスを見込んだ電子ビーム露光」 東京工業大学 宮本恭幸
 15:35-16:10 「電子線描画とMEMSの融合によるナノデバイス創製」 京都大学 土屋智由

【参加申込方法】E-mail

【参加申込締切】2016年6月10日(金)(*原則として先着順)

【お問い合わせ・お申込み】
京都大学ナノテクノジーハブ拠点 松嶋 朝明
 〒606-8501 京都市左京区吉田本町
 京都大学 工学部物理系校舎327号室
 TEL:075-753-5231 FAX:075-753-5650
 E-mail:matsushima.tomoaki.3s(at)kyoto-u.ac.jp