文部科学省先端研究施設共用イノベーション創出事業

ナノテクノロジー・ネットワーク 平成23年度成果報告会

 「ナノテクノロジー・ネットワーク」は文部科学省の委託事業で、日本のナノテクノロジー先端研究拠点として選ばれた13拠点の参加26機関が連携し、各機関のナノテク関係先端機器を共用化し、イノベーション創出に資することを目的としています。 

 このたび本事業は5年目の最終年度を迎え、ユーザとの交流の場として成果報告会を東京工業大学拠点において開催することにいたしました。

 本報告会では、傑出した施設利用成果と実用面での展開、ならびに参加機関の役割と機器の共同利用がもたらす様々な効果を紹介することにより、本事業についての理解を深め、またユーザーの立場からニーズや要望等情報交換の場となることを目指します。

事前参加登録は、11月4日(金)17時にて締め切らせていただきました。多数のお申し込みをありがとうございました。

当日の参加申込も受け付けております。参加をご希望の方は、当日、会場受付にてお申し込み下さい。


日時: 2011年118日(火) 13:10‐19:00

場所: 東工大蔵前会館 1階 くらまえホール、ロイアルブルーホール
(〒152-0033 目黒区大岡山2丁目12−1 東工大蔵前会館)

主催: 文部科学省先端研究施設共用イノベーション創出事業 ナノテクノロジー・ネットワーク参加26機関

北海道大学、千歳科学技術大学、東北大学、物質・材料研究機構、東洋大学、産業技術総合研究所、東京大学、東京工業大学、早稲田大学、自然科学研究機構分子科学研究所、名古屋大学、名古屋工業大学、豊田工業大学、京都大学、北陸先端科学技術大学院大学、奈良先端科学技術大学院大学、大阪大学、日本原子力研究開発機構、立命館大学、広島大学、山口大学、九州大学、佐賀県地域産業支援センター、北九州産業学術推進機構、佐賀大学

後援: ナノテクノロジービジネス推進協議会


プログラム:
I. 13:10-17:10 シンポジウム (参加費無料);くらまえホール
13:10-13:20
開会挨拶 文部科学省
13:20-14:00
特別講演(I)「グラフェンの物理的興味」
安藤 恒也(東京工業大学)
14:00-14:20

利用成果(1) 「グラフェンにおける界面効果」
高井 和之(東京工業大学)

14:20-14:40

利用成果(2) 「グラフォエピタキシーを利用した有機半導体薄膜の配向制御」
池田 進(東北大学)

14:40-15:00
利用成果(3) 「ナノインプリント用レプリカモールドの離型性向上について」
川口 泰秀(旭硝子株式会社)
15:00-15:20 <休憩>
15:20-15:40

特別講演(II) 「NBCIはじめ産業界のニーズとナノネットへの期待」
長瀬 公一(ナノテクノロジービジネス推進協議会企画運営推進会議議長、東レ株式会社)

15:40-16:00

利用成果(4) 「マルチフェロイックス固体電子材料のナノ構造観察」
于 秀珍(理化学研究所)

16:00-16:20

利用成果(5) 「側壁絶縁シリコンチップ試作」
三浦 典之(慶応義塾大学)

16:20-16:40

利用成果(6) 「テクスチャー表面の濡れ現象」
奥村 剛(お茶の水女子大学)

16:40-17:05
NNIN(National Nanotechnology Infrastructure Network)研修参加報告(5名)
17:05-17:10
閉会挨拶 物質・材料研究機構
II. 17:15-19:00 ポスター発表/意見交換会(参加費2000円);ロイアルブルーホール

【お問い合わせ】
NIMS 国際ナノテクノロジーネットワーク拠点運営室
〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1
TEL:029-859-2777
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