超微細リソグラフィー・ナノ計測拠点  (東京大学)

東京大学大規模集積システム設計教育研究センターは,17年の支援経験を生かして,高速・大面積リソグラフィの装置利用環境を提供します.本プラットフォーム事業で併せて,集積回路と融合したMEMSの試作プロジェクトを提供しています.

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事業の紹介

東京大学大規模集積システム設計教育研究センターは,1997年より「大面積・高速」を特色とする一流の電子線描画装置提供をアカデミックに提供してきました.ナノテクノロジー・プラットフォーム技術員のサポートにより学外の初心利用者にも,安心してご利用いただけます.現在の主力装置は,最大8インチウエーハまでの各種サイズ・形状基板に対応し,可変整形ビーム/キャラクタ(セル)プロジェクション方式により,ウエーハ全面への平均描画時間1時間未満という高スループットを実現しています.その他,シリコン深掘りエッチング装置でも世界的な競争力を持ち,CMOS-MEMSとの融合に展開を図っています.

スーパークリーンルーム大面積・任意形状基板高速電子線描画装置
  
高速深掘りシリコンICPエッチング装置4インチシリコンウエーハに直接電子線描画をして加工した様子

ニュース

本事業の共用設備

成果事例

最新の成果事例

2016/10/31pdfナノリソグラフィによる高感度Piezoelectric MUTの開発
(コニカミノルタ株式会社 ヘルスケア事業本部)
2015/11/06pdfモード共鳴回折格子の試作
(株式会社エンプラス研究所)
2014/10/29pdf金属ナノ構造を用いた赤外域の電場増強と新規光学現象の発現
(東京大学,東京農工大学)
2013/07/17pdfフォトニック結晶ナノ共振器によるカーボンナノチューブの発光増強
(東京大学大学院工学系研究科,東京大学生産技術研究所)
2013/07/17pdfテクスチャー表面上での濡れ性についての研究
(お茶の水女子大学)
2013/07/17pdf金属ナノ構造を利用した中赤外電磁場の増強と時空間制御
(東京農工大学)

その他の成果事例

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