シリコンナノ加工及びデバイス技術に関する支援  (広島大学)

クラス10のクリーンルームと電子線描画によるナノデバイス試作ラインを用いた高度な微細シリコンデバイス試作支援.10年の支援実績と多数の受賞成果.物理分野の博士研究員を再教育し半導体分野に多数輩出.

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事業の紹介

広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所のスーパークリーンルームに設置された,電子線描画装置を始めとするデバイス試作ラインを用いて,共同研究,装置利用,技術代行および技術相談を実施します.2インチシリコンウェハを用いて,30nmの超微細加工が可能です.シリコン以外の材料に対しても可能な限り対応します.N&MEMS技術,バイオ関連デバイスに関しても,本学先端物質科学研究科などと連携して異分野融合を推進し高度で多様な支援を提供します.また,学内社会連携推進機構および社会人教育プログラムを通じて産学連携を推進し利用者の拡大に努めています.
これまでの支援成果例として,(1)プリンタ用レーザヘッドの低コスト製造法(エピフィルムボンディング法)の実用化(2007年内閣総理大臣表彰「ものづくり大賞」優秀賞受賞)や(2)シランプラズマ中のダスト微粒子抑制法(2006年日本エアロゾル学会論文賞受賞)などがあります.
超高精度電子線描画装置
(ELS-G100, 6nm)
Si用ICP(誘導結合プラズマ)エッチング装置
(ユーテック)
  
RBS測定装置
(加速電圧2.5MV H+,He+,N+,e等)
世界初,異種材料間の薄膜接合技術を
実用レベルで量産化に成功
(沖デジタルイメージングに対する支援)

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成果事例

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